[EUV 포토마스크 및 펠리클 평가기술 개발]
한양대학교 신소재공학과 이동기 석박통합과정 학생(지도교수 안진호)이 국제광전자공학회(SPIE, Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers) 장학생으로 선정됐다고, 한양대가 26일 밝혔다. SPIE는 광학 및 광전자 공학 분야에서 가장 권위가 있는 학회이다.
이동기 학생이 수상한 ‘SPIE-BACUS ’장학금은 반도체 노광공정분야에서 가장 우수한 학생에게 수여된다. 한국에서는 이동기 학생이 최초로 수상했다.
이동기 학생은 반도체 미세화의 핵심인 EUV 노광기술에 사용되는 포토마스크 및 펠리클 평가기술을 연구하고 있으며, 차세대 포토마스크인 EUV 위상변위마스크 평가기술을 개발했다. 또한, EUV 검사 기술 및 장치에 대한 국제표준을 최초로 제정하기 위한 프로젝트를 진행하고 있다.
이동기 학생은 “국내 EUV 소재 부품 장비 산업의 경쟁력을 높이기 위해서 EUV 평가기술의 개발이 가장 중요하다고 생각한다. 그렇기에 혁신적인 EUV 평가기술 개발을 통해 국내 EUV 테스트베드 구축에 기여하는 것이 목표”라고 밝혔다.
한편, 이동기 학생이 소속되어 있는 한양대학교 안진호 교수 연구팀은 국내에서 최초로 EUV 노광기술 연구를 시작했고, 현재 국가지정연구협의체(N-Team)인 EUV 산학협력센터 (EUV-IUCC)를 통해 30여 개 기업과 협력 중이다.
*출처: 교수신문 https://www.kyosu.net/news/articleView.html?idxno=110095
