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출원 |
출원 번호 |
10-2020-0158856 |
출원 일자 |
20201124 |
발명의 명칭 |
3차원 적층 반도체 소자 및 그 제조 방법 |
발명자 |
박인성, 신상휴, 김선용, 이조원, 안진호* |
등록국가 |
대한민국 |
특허권자 |
한양대학교 산학협력단, 성균관대학교산학협력단 |
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출원 |
출원 번호 |
10-2020-0120062 |
출원 일자 |
20200917 |
발명의 명칭 |
펠리클 홀딩 모듈, 이를
포함하는 펠리클 열적 내구성 평가 장치, 및 펠리클 열적 내구성 평가 방법 |
발명자 |
위성주, 안진호*, 장용주 |
등록국가 |
대한민국 |
특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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출원 |
출원 번호 |
PCT/KR2020/002774 |
출원 일자 |
20200226 |
발명의 명칭 |
극자외선 리소그래피용 마스크, 및 그 제조 방법 |
발명자 |
김정식, 정동민, 안진호* |
등록국가 |
PCT |
특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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등록 |
등록 번호 |
10-2186010 |
등록 일자 |
20201127 |
발명의 명칭 |
EUV 펠리클 구조체,
및 그 제조 방법 |
발명자 |
안진호*, 김정환, 김정식, 우동곤, 장용주 |
등록국가 |
대한민국 |
특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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등록 |
등록 번호 |
10-2185991 |
등록 일자 |
20201126 |
발명의 명칭 |
반도체 제조용 막 |
발명자 |
안진호*, 김성인, 윤창한, 신정철 |
등록국가 |
대한민국 |
특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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등록 |
등록 번호 |
10-2140870 |
등록 일자 |
20200728 |
발명의 명칭 |
펠리클 식각 지그 및
펠리클 식각 시스템 |
발명자 |
안진호*, 신현진, 위성주, 장용주 |
등록국가 |
대한민국 |
특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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등록 |
등록 번호 |
ZL201580020112.6 |
등록 일자 |
20200710 |
발명의 명칭 |
用于 EUV 光刻的防护薄膜组件 |
발명자 |
안진호*, 이재욱, 홍성철, 김정환, 이승민 |
등록국가 |
중국 |
특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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등록 |
등록 번호 |
10-2100029 |
등록 일자 |
20200406 |
발명의 명칭 |
펠리클 구조체 및 이를
이용한 리소그래피용 마스크의 결함 검사 방법 |
발명자 |
안진호*, 이성규, 오혜근, 박진구, 김국진 |
등록국가 |
대한민국 |
특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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출원 |
출원 번호 |
PCT/KR2021/010473 |
출원 일자 |
20210809 |
발명의 명칭 |
펠리클 홀딩 모듈, 이를 포함하는펠리클 열적 내구성 평가 장치, 및 펠리 클열적 내구성 평가 방법 |
발명자 |
위성주, 안진호*, 장용주 |
등록국가 |
PCT |
특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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등록 |
등록 번호 |
10-2256578 |
등록 일자 |
20210520 |
발명의 명칭 |
타이코그래피 이미징 장치 및 방법 |
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발명자 |
우동곤, 김영웅, 안진호* |
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등록국가 |
대한민국 |
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특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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등록 |
등록 번호 |
ZL201780008507.3 |
등록 일자 |
20210727 |
발명의 명칭 |
极紫外线光罩护膜结构体及其制造方法 |
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발명자 |
김정환, 김정식, 우동곤, 장용주, 안진호* |
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등록국가 |
중국 |
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특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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등록 |
등록 번호 |
10-2297038 |
등록 일자 |
20210827 |
발명의 명칭 |
펠리클
멤브레인의 검사 데이터베이스 구축 방법 및 그 데이터베이스를 이용한 펠리클 멤브레인의 검사 방법 |
발명자 |
우동곤, 김영웅, 안진호*, 김재순, 양한모 |
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등록국가 |
대한민국 |
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특허권자 |
명지대학교 산학협력단, 한양대학교 산학협력단 |
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등록 |
등록 번호 |
10-2243367 |
등록 일자 |
20210416 |
발명의 명칭 |
펠리클 홀더, 펠리클 검사 장치, 및 펠리클 검사 방법 |
발명자 |
우동곤, 김영웅, 안진호* |
등록국가 |
대한민국 |
특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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등록 |
등록 번호 |
10-2237572 |
등록 일자 |
20210401 |
발명의 명칭 |
EUV 리소그래피용 마스크 및 그 제조 방법 |
발명자 |
김정식, 안진호*, 정동민 |
등록국가 |
대한민국 |
특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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등록 |
등록 번호 |
10,962,876 |
등록 일자 |
20210330 |
발명의 명칭 |
EUV PELLICLE STRUCTURE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME |
발명자 |
김정환, 김정식, 우동곤, 장용주, 안진호* |
등록국가 |
미국 |
특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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등록 |
등록 번호 |
10-2217847 |
등록 일자 |
20210215 |
발명의 명칭 |
절연막의 제조 방법, 및 이를 이용한 절연막 |
발명자 |
박인성, 안진호*, 정용찬, 성세종, 이태훈, 이박, 김선용 |
등록국가 |
대한민국 |
특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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출원 |
출원 번호 |
10-2022-0149712 |
출원 일자 |
20221110 |
발명의 명칭 |
위상 복원 알고리즘을 이용한 EUV 소재의 광학 상수 측정 장치와 그 방법 |
발명자 |
문승찬, 이동기, 최진혁, 안진호*, 정동민, 김연수, 김원진, 조민선 |
등록국가 |
대한민국 |
특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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출원 |
출원 번호 |
10-2022-0149700 |
출원 일자 |
20221110 |
발명의 명칭 |
옵티컬 플랫을 이용한 극자외선 블랭크마스크 검사 장치 및 그 방법 |
발명자 |
이동기, 안진호*, 문승찬, 최진혁 |
등록국가 |
대한민국 |
특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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출원 |
출원 번호 |
17/889,472 |
출원 일자 |
20220817 |
발명의 명칭 |
PELLICLE CLEANING APPARATUS AND PELLICLE CLEANING METHOD USING
THE SAME |
발명자 |
박진구, 김태곤, 안진호* |
등록국가 |
미국 |
특허권자 |
삼성전자(주), 한양대학교 에리카산학협력단 |
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출원 |
출원 번호 |
18/349,504 |
출원 일자 |
20230710 |
발명의 명칭 |
MULTI-LAYERED MOLECULAR FILM PHOTORESIST HAVING
MOLECULAR LINE STRUCTURE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME |
발명자 |
안진호*, 성명모, 이재혁, 박영은, 지현석 |
등록국가 |
미국 |
특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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