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| 출원 |
출원 번호 |
10-2024-0087250 |
출원 일자 |
20240703 |
| 발명의 명칭 |
분자선 구조를 갖는 다층 분자막 포토레지스트 및 이의 제조방법 |
| 발명자 |
성명모, 안진호*, 박영은, 지현석, 이재혁 |
| 등록국가 |
대한민국 |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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| 출원 |
출원 번호 |
10-2024-0086662 |
출원 일자 |
20240702 |
| 발명의 명칭 |
이온주입공정을 활용한 극자외선 노광공정용 마스크의 제조 방법 및 이를 통해 제조된 마스크 |
| 발명자 |
안진호*, 정동민, 김연수, 이승호 |
| 등록국가 |
대한민국 |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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| 출원 |
출원 번호 |
10-2024-0086660 |
출원 일자 |
20240702 |
| 발명의 명칭 |
극자외선 리소그래피용 마스크 흡수소재 구조 변경을 통한 성능 제어 기술 |
| 발명자 |
안진호*, 정동민, 김연수, 이승호 |
| 등록국가 |
대한민국 |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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| 출원 |
출원 번호 |
10-2024-0086658 |
출원 일자 |
20240702 |
| 발명의 명칭 |
EUV 반사도 및 초점심도 향상을 위한 EUV 노광 공정용 마스크 다층 미러 소재 및 구조 개발 |
| 발명자 |
안진호*, 정동민, 김연수, 이승호 |
| 등록국가 |
대한민국 |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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| 출원 |
출원 번호 |
10-2024-0075038 |
출원 일자 |
20240610 |
| 발명의 명칭 |
다공성 펠리클 및 그 제조 방법 |
| 발명자 |
안진호*, 김학성, 김하늘, 김정연, 강영우, 김현수 |
| 등록국가 |
대한민국 |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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| 출원 |
출원 번호 |
22892970.9 |
출원 일자 |
20240606 |
| 발명의 명칭 |
3-DIMENSIONAL MEMORY ARRAY AND METHOD FOR MANUFACTURING |
| 발명자 |
Park Young Wook, Ahn Jin Ho* |
| 등록국가 |
유럽특허청 |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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| 출원 |
출원 번호 |
PCT/KR2024/005295 |
출원 일자 |
20240419 |
| 발명의 명칭 |
다층 커패시터 수평 전극들을 포함하는 3차원 메모리 및 그 제조 방법 |
| 발명자 |
박영욱, 안진호*, 박인성, 신왕철, 김성준 |
| 등록국가 |
PCT |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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| 출원 |
출원 번호 |
18/702,727 |
출원 일자 |
20240418 |
| 발명의 명칭 |
THREE-DIMENSIONAL MEMORY ARRAY AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME |
| 발명자 |
Park Young Wook, Ahn Jin Ho* |
| 등록국가 |
미국 |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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| 출원 |
출원 번호 |
10-2024-0051428 |
출원 일자 |
20240417 |
| 발명의 명칭 |
EUV 마스크 검사 장치 및 검사 방법 |
| 발명자 |
안진호*, 문승찬, 이동기, 홍준호 |
| 등록국가 |
대한민국 |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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| 출원 |
출원 번호 |
10-2024-0051349 |
출원 일자 |
20240417 |
| 발명의 명칭 |
EUV 간섭 리소그래피 시스템 |
| 발명자 |
안진호*, 이동기, 문승찬, 홍준호, 김지원 |
| 등록국가 |
대한민국 |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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| 출원 |
출원 번호 |
202280069596.3 |
출원 일자 |
20240416 |
| 발명의 명칭 |
3차원 메모리 어레이 및 그 제조 방법 |
| 발명자 |
Park Young Wook, Ahn Jin Ho* |
| 등록국가 |
중국 |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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| 출원 |
출원 번호 |
10-2024-0035610 |
출원 일자 |
20240314 |
| 발명의 명칭 |
마스크 검사 장치 및 마스크 검사 방법 |
| 발명자 |
안진호*, 이동기, 김영웅, 문승찬 |
| 등록국가 |
대한민국 |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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| 출원 |
출원 번호 |
22856301.1 |
출원 일자 |
20240312 |
| 발명의 명칭 |
MULTI-LAYERED MOLECULAR FILM PHOTORESIST HAVING MOLECULAR LINE
STRUCTURE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME |
| 발명자 |
Myung Mo Sung, Jinho Ahn*, BAK YEONG EUN, JI,
HYEONSEOK, Jae Hyuk Lee |
| 등록국가 |
유럽특허청 |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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| 출원 |
출원 번호 |
2024-508377 |
출원 일자 |
20240209 |
| 발명의 명칭 |
分子線構造を有する多層分子膜フォトレジストおよびその製造方法 |
| 발명자 |
Myung Mo Sung, Jinho Ahn*, BAK YEONG EUN, JI,
HYEONSEOK, Jae Hyuk Lee |
| 등록국가 |
일본 |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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| 출원 |
출원 번호 |
PCT/KR2024/000092 |
출원 일자 |
20240103 |
| 발명의 명칭 |
보호층 증착을 통한 다공성 EUV 펠리클의 제조 방법, 및 이에 사용되는 구조체 |
| 발명자 |
안진호*, 김정연, 김하늘, 위성주 |
| 등록국가 |
PCT |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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| 출원 |
출원 번호 |
10-2023-0162662 |
출원 일자 |
20231121 |
| 발명의 명칭 |
반사형 마스크 |
| 발명자 |
안진호*, 정동민, 김연수, 이승호, 권성원, 정창영 |
| 등록국가 |
대한민국 |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단, 삼성전자 |
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| 출원 |
출원 번호 |
10-2023-0155321 |
출원 일자 |
20231110 |
| 발명의 명칭 |
EUV 리소그래피용 마스크의 이미징 성능 향상 방법 및 시스템 |
| 발명자 |
안진호*, 김선용, 위성주, 정동민, 김연수, 이동기, 조민선, 석지후 |
| 등록국가 |
대한민국 |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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| 출원 |
출원 번호 |
10-2023-0147759 |
출원 일자 |
20231031 |
| 발명의 명칭 |
플래토를 방지하는 습식 식각 방법 |
| 발명자 |
안진호*, 박영욱, 김하늘, 김정연, 강영우, 위성주, 김원진 |
| 등록국가 |
대한민국 |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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| 출원 |
출원 번호 |
10-2023-0147758 |
출원 일자 |
20231031 |
| 발명의 명칭 |
언더-컷을 방지하는 습식 식각 방법 및 이에 사용되는 마스크 구조물 |
| 발명자 |
안진호*, 박영욱, 김하늘, 김정연, 강영우, 위성주, 김원진 |
| 등록국가 |
대한민국 |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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| 등록 |
등록 번호 |
12,032,281 |
등록 일자 |
20240709 |
| 발명의 명칭 |
PELLICLE CLEANING APPARATUS AND PELLICLE CLEANING METHOD USING
THE SAME |
| 발명자 |
Byunghoon Lee, Jin Goo Park, Tae-Gon Kim,
Sanguk Park, Changyoung Jeong, Jinho Ahn*, Hyun-tae Kim |
| 등록국가 |
미국 |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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