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| 출원 |
출원 번호 |
PCT/KR2023/009387 |
출원 일자 |
20240704 |
| 발명의 명칭 |
DRAM 소자의 커패시터 및 그 제조 방법 |
| 발명자 |
안진호*, 박영욱, 박인성, 신왕철, 김선용 |
| 등록국가 |
PCT |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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| 등록 |
등록 번호 |
10-2516407 |
등록 일자 |
20230328 |
| 발명의 명칭 |
3차원 적층 반도체 소자 및 그 제조 방법 |
| 발명자 |
안진호*, 박인성, 신상휴, 김선용, 이조원 |
| 등록국가 |
대한민국 |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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| 출원 |
출원 번호 |
10-2024-0198121 |
출원 일자 |
20241227 |
| 발명의 명칭 |
3차원 메모리 어레이 및 그 제조 방법{3D MEMORY ARRAY AND MANUFACTURING METHOD
THEREOF} |
| 발명자 |
안진호*, 박영욱 |
| 등록국가 |
대한민국 |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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| 출원 |
출원 번호 |
10-2024-0185753 |
출원 일자 |
20241213 |
| 발명의 명칭 |
CNT 펠리클의 수소 라이컬 침투 방지를 위한 다층 코팅막 구조 |
| 발명자 |
안진호*, 강영우, 김하늘, 이인서 |
| 등록국가 |
대한민국 |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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| 출원 |
출원 번호 |
18/870,489 |
출원 일자 |
20241129 |
| 발명의 명칭 |
DEVICE AND METHOD FOR MEASURING REFRACTION COEFFICIENT AND
EXTINCTION COEFFICIENT OF EUV MASK MATERIAL |
| 발명자 |
안진호*, 이동기, 김영웅, 문승찬, 최진혁 |
| 등록국가 |
미국 |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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| 출원 |
출원 번호 |
18/870,099 |
출원 일자 |
20241127 |
| 발명의 명칭 |
EUV MASK INSPECTION APPARATUS AND METHOD THROUGH ILLUMINATION
CONTROL |
| 발명자 |
안진호*, 문승찬, 김영웅, 이동기, 최진혁 |
| 등록국가 |
미국 |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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| 출원 |
출원 번호 |
10-2024-0019407 |
출원 일자 |
20240208 |
| 발명의 명칭 |
가교성 작용기를 갖는 유기단분자를 포함한 분자선 구조의 다층 분자막 포토레지스트 및 그의 제조방법 |
| 발명자 |
안진호*, 지현석, 이재혁, 성명모, 박영은 |
| 등록국가 |
대한민국 |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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| 출원 |
출원 번호 |
PCT/KR2024/001961 |
출원 일자 |
20240208 |
| 발명의 명칭 |
배위결합에 의해 가교가능한 분자선 구조를 갖는 다층 분자막 포토레지스트 |
| 발명자 |
안진호*, 지현석, 이재혁, 성명모, 박영은 |
| 등록국가 |
PCT |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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| 출원 |
출원 번호 |
PCT/KR2024/001930 |
출원 일자 |
20240208 |
| 발명의 명칭 |
분자선 구조를 갖는 포지티브형의 다층 분자막 포토레지스트 |
| 발명자 |
안진호*, 지현석, 이재혁, 성명모, 박영은 |
| 등록국가 |
PCT |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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| 출원 |
출원 번호 |
10-2024-0019933 |
출원 일자 |
20240208 |
| 발명의 명칭 |
배위결합에 의해 가교가능한 분자선 구조를 갖는 다층 분자막 포토레지스트 |
| 발명자 |
안진호*, 지현석, 이재혁, 성명모, 박영은 |
| 등록국가 |
대한민국 |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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| 출원 |
출원 번호 |
10-2024-0019373 |
출원 일자 |
20240208 |
| 발명의 명칭 |
분자선 구조를 갖는 포지티브형의 다층 분자막 포토레지스트 |
| 발명자 |
안진호*, 지현석, 이재혁, 성명모, 박영은 |
| 등록국가 |
대한민국 |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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| 출원 |
출원 번호 |
PCT/KR2024/001924 |
출원 일자 |
20240208 |
| 발명의 명칭 |
가교성 작용기를 갖는 유기단분자를 포함한 분자선 구조의 다층 분자막 포토레지스트 및 그의 제조방법 |
| 발명자 |
안진호*, 지현석, 이재혁, 성명모, 박영은 |
| 등록국가 |
PCT |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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| 출원 |
출원 번호 |
10-2024-0012979 |
출원 일자 |
20240129 |
| 발명의 명칭 |
이온주입공정을 활용한 극자외선 노광공정용 마스크 제작 방법 |
| 발명자 |
안진호*, 김연수, 정동민, 이승호 |
| 등록국가 |
대한민국 |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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| 등록 |
등록 번호 |
10-2740096 |
등록 일자 |
20241204 |
| 발명의 명칭 |
펠리클 홀딩 모듈, 이를 포함하는 펠리클 열적 내구성 평가 장치, 및 펠리클 열적 내구성 평가 방법 |
| 발명자 |
안진호*, 위성주, 장용주 |
| 등록국가 |
대한민국 |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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| 출원 |
출원 번호 |
10-2025-0088453 |
출원 일자 |
20250702 |
| 발명의 명칭 |
EUV 마스크 흡수 패턴의 구조 제어 방법 및 구조 제어 시스템 |
| 발명자 |
안진호*, 정동민, 김연수, 이승호 |
| 등록국가 |
대한민국 |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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| 출원 |
출원 번호 |
10-2025-0067251 |
출원 일자 |
20250523 |
| 발명의 명칭 |
이중 도핑막 구조의 소스 또는 드레인을 포함하는 3차원 메모리 및 그 제조 방법 |
| 발명자 |
안진호*, 박영욱, 정회윤, 박준형, 김성준, 신왕철 |
| 등록국가 |
대한민국 |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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| 출원 |
출원 번호 |
PCT/KR2025/095230 |
출원 일자 |
20250417 |
| 발명의 명칭 |
EUV 마스크 검사 장치 및 검사 방법 |
| 발명자 |
안진호*, 문승찬, 이동기, 홍준호 |
| 등록국가 |
PCT |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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| 출원 |
출원 번호 |
PCT/KR2025/095229 |
출원 일자 |
20250417 |
| 발명의 명칭 |
EUV 간섭 리소그래피 시스템 |
| 발명자 |
안진호*, 이동기, 문승찬, 홍준호, 김지원 |
| 등록국가 |
PCT |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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| 출원 |
출원 번호 |
10-2025-0021662 |
출원 일자 |
20250219 |
| 발명의 명칭 |
펠리클 멤브레인 capping layer의 다회 증착을 통한 박막의 내식각 특성 향상 방법 및 그 구조체 |
| 발명자 |
안진호*, 박영욱, 김하늘, 김태환, 강영우, 김원진, 이인서 |
| 등록국가 |
대한민국 |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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| 출원 |
출원 번호 |
10-2025-0011524 |
출원 일자 |
20250124 |
| 발명의 명칭 |
EUV 마스크 검사 정확도 향상 장치 및 향상 방법 |
| 발명자 |
안진호*, 문승찬, 홍준호 |
| 등록국가 |
대한민국 |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
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