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| 출원 | 등록(출원) 번호 | 10-2022-0066154 | 등록(출원) 일자 | 20220530 | | 발명의 명칭 | EUV 마스크 소재의 굴절계수 및 흡광계수 측정 장치 및 방법 | | 발명자 | 안진호*, 이동기, 김영웅, 문승찬, 최진혁 | | 등록국가 | 대한민국 | | 특허권자 | 한양대학교 산학협력단 |
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| 출원 | 등록(출원) 번호 | 10-2022-0043229 | 등록(출원) 일자 | 20220407 | | 발명의 명칭 | EUV 노광공정용 종합 검사 장치 | | 발명자 | 안진호*, 이동기, 김영웅, 문승찬, 최진혁 | | 등록국가 | 대한민국 | | 특허권자 | 한양대학교 산학협력단 |
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| 출원 | 등록(출원) 번호 | 10-2021-0185830 | 등록(출원) 일자 | 20211223 | | 발명의 명칭 | 펠리클 세정 장치 및 이를 이용한 펠리클 세정 방법 | | 발명자 | 박진구, 김태곤, 안진호*, 박상욱, 이병훈, 정창영 | | 등록국가 | 대한민국 | | 특허권자 | 삼성전자(주), 한양대학교 에리카 산학협력단 |
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| 출원 | 등록(출원) 번호 | 10-2021-0162990 | 등록(출원) 일자 | 20211124 | | 발명의 명칭 | 극자외선 노광 공정용 펠리클의 열적 내구성 개선 방법 | | 발명자 | 위성주, 장용주, 김하늘, 안진호* | | 등록국가 | 대한민국 | | 특허권자 | 한양대학교 산학협력단 |
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| 출원 | 등록(출원) 번호 | 10-2021-0155031 | 등록(출원) 일자 | 20211111 | | 발명의 명칭 | 극자외선 양산 공정 적용을 위해 다층 박막 간 inter-mixing layer를 기형성한 펠리클 구조체 | | 발명자 | 안진호*, 김정환, 위성주, 김하늘, 김창수, 김원진 | | 등록국가 | 대한민국 | | 특허권자 | 한양대학교 산학협력단 |
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| 출원 | 등록(출원) 번호 | 10-2021-0154047 | 등록(출원) 일자 | 20211110 | | 발명의 명칭 | 3차원 메모리 어레이 및 그 제조 방법 | | 발명자 | 박영욱, 안진호* | | 등록국가 | 대한민국 | | 특허권자 | 한양대학교 산학협력단 |
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| 출원 | 등록(출원) 번호 | 10-2021-0150217 | 등록(출원) 일자 | 20211104 | | 발명의 명칭 | EUV 마스크 검사 장치 및 EUV 마스크 검사 방법 | | 발명자 | 안진호*, 이동기, 김영웅, 문승찬 | | 등록국가 | 대한민국 | | 특허권자 | 한양대학교 산학협력단 |
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| 출원 | 등록(출원) 번호 | 17/463,854 | 등록(출원) 일자 | 20210901 | | 발명의 명칭 | MASK FOR EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY AND METHOD FOR
MANUFACTURING SAME | | 발명자 | 김정식, 정동민, 안진호* | | 등록국가 | 미국 | | 특허권자 | 한양대학교 산학협력단 |
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| 등록 | 등록(출원) 번호 | 11,402,746 | 등록(출원) 일자 | 20220802 | | 발명의 명칭 | MASK PROTECTIVE MODULE, PELLICLE HAVING THE SAME, AND
LITHOGRAPHY APPARATUS HAVING THE SAME | | 발명자 | 안진호*, 홍성철, 김정환 | | 등록국가 | 미국 | | 특허권자 | 한양대학교 산학협력단 |
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| 등록 | 등록(출원) 번호 | 11,137,693 | 등록(출원) 일자 | 20211005 | | 발명의 명칭 | PELLICLE HOLDER, PELLICLE INSPECTION APPARATUS, AND PELLICLE
INSPECTION METHOD | | 발명자 | 김영웅, 우동곤, 안진호* | | 등록국가 | 미국 | | 특허권자 | 한양대학교 산학협력단 |
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| 등록 | 등록(출원) 번호 | 10-2312385 | 등록(출원) 일자 | 20211006 | | 발명의 명칭 | EUV 리소그래피용 펠리클 제조 방법 및 그 제조 장치 | | 발명자 | 박진구 ,오혜근, 안진호*, 김현태 | | 등록국가 | 대한민국 | | 특허권자 | 한양대학교 산학협력단, 한양대학교 에리카 산학협력단 |
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| 등록 | 등록(출원) 번호 | 10-2320292 | 등록(출원) 일자 | 20211027 | | 발명의 명칭 | 위상 변위 마스크의 양불 검사 방법 및 이를 위한 양불 검사 장치 | | 발명자 | 우동곤, 안진호*, 김영웅, 김정환 | | 등록국가 | 대한민국 | | 특허권자 | 한양대학교 산학협력단 |
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