|
| 출원 |
등록(출원) 번호 |
10-2023-0038380 |
등록(출원)일자 |
20230324 |
| 발명의 명칭 |
소재의
극자외선 광 특성 평가 및 패턴 마스크 검사 장치 |
| 발명자 |
안진호*,
문승찬, 이동기, 최진혁 |
| 등록국가 |
대한민국 |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
|
|
| 출원 |
등록(출원) 번호 |
10-2023-0034810 |
등록(출원)일자 |
20230316 |
| 발명의 명칭 |
조리개
합성 및 비축조명 기술을 이용한 고개구수 극자외선 노광공정용 마스크 검사 장치 및 방법 |
| 발명자 |
안진호*,
최진혁, 이동기, 문승찬 |
| 등록국가 |
대한민국 |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
|
|
| 출원 |
등록(출원) 번호 |
18/179,875 |
등록(출원)일자 |
20230313 |
| 발명의 명칭 |
Evaluation
device and method using UV laser for EUV pellicle |
| 발명자 |
위성주,
안진호*, 장용주 |
| 등록국가 |
미국 |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
|
|
| 출원 |
등록(출원) 번호 |
10-2023-0031617 |
등록(출원)일자 |
20230310 |
| 발명의 명칭 |
극자외선
광원의 결맞음성 조절을 이용한 고해상도 마스크 검사 장치 및 그 방법 |
| 발명자 |
안진호*,
이동기, 문승찬, 최진혁 |
| 등록국가 |
대한민국 |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
|
|
| 출원 |
등록(출원) 번호 |
10-2023-0000492 |
등록(출원)일자 |
20230103 |
| 발명의 명칭 |
보호층
증착을 통한 다공성 구조의 EUV 펠리클 제작 방법 |
| 발명자 |
안진호*,
김하늘, 김정연, 위성주 |
| 등록국가 |
대한민국 |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
|
|
| 출원 |
등록(출원) 번호 |
10-2023-0000491 |
등록(출원)일자 |
20230103 |
| 발명의 명칭 |
Free-standing
membrane 구조의 희생층에 펠리클화 기반층 직접 증착을 통한 EUV 펠리클 제작 방법 |
| 발명자 |
안진호*,
김하늘, 위성주, 강영우, 김원진, 김정연 |
| 등록국가 |
대한민국 |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
|
|
| 출원 |
등록(출원) 번호 |
10-2023-0000490 |
등록(출원)일자 |
20230103 |
| 발명의 명칭 |
2차원
다각형 조합의 다공 배열을 포함한 고투과/저반사 EUV 펠리클 및 그 구조 |
| 발명자 |
안진호*,
김하늘, 김정연, 위성주 |
| 등록국가 |
대한민국 |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
|
|
| 출원 |
등록(출원) 번호 |
202211663432.1 |
등록(출원)일자 |
20221223 |
| 발명의 명칭 |
PELLICLE
CLEANING APPARATUS AND PELLICLE CLEANING METHOD USING THE SAME |
| 발명자 |
박진구,
김태곤, 안진호* |
| 등록국가 |
중국 |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
|
|
| 출원 |
등록(출원) 번호 |
10-2022-0150228 |
등록(출원)일자 |
20221111 |
| 발명의 명칭 |
극자외선
양산 공정 적용을 위해 다층 박막 간 inter-mixing layer를 기형성한 펠리클 구조체 |
| 발명자 |
김정환,
위성주, 김하늘, 김창수, 김원진, 안진호* |
| 등록국가 |
대한민국 |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
|
|
| 출원 |
등록(출원) 번호 |
10-2022-0149709 |
등록(출원)일자 |
20221110 |
| 발명의 명칭 |
회절광
위상 특성 최적화를 통한 극자외선 리소그래피용 마스크 성능 향상 기술 |
| 발명자 |
정동민,
김연수, 조민선, 위성주, 김선용, 석지후, 이동기, 안진호* |
| 등록국가 |
대한민국 |
| 특허권자 |
한양대학교 산학협력단 |
|
|
| 출원 | 등록(출원) 번호 | PCT/KR2022/012143 | 등록(출원)일자 | 20220812 | | 발명의 명칭 | 분자선 구조를 갖는 다층 분자막 포토레지스트 및 이의 제조방법 | | 발명자 | 이재혁, 성명모, 안진호*, 박영은, 지현석 | | 등록국가 | PCT | | 특허권자 | 한양대학교 산학협력단 |
|
|
| 출원 | 등록(출원) 번호 | 10-2022-0101505 | 등록(출원) 일자 | 20220812 | | 발명의 명칭 | 분자선 구조를 갖는 다층 분자막 포토레지스트 및 이의 제조방법 | | 발명자 | 이재혁, 성명모, 안진호*, 박영은, 지현석 | | 등록국가 | 대한민국 | | 특허권자 | 한양대학교 산학협력단 |
|
|
| 출원 | 등록(출원) 번호 | PCT/KR2022/010184 | 등록(출원) 일자 | 20220713 | | 발명의 명칭 | 3차원 메모리 어레이 및 그 제조 방법 | | 발명자 | 박영욱, 안진호* | | 등록국가 | PCT | | 특허권자 | 한양대학교 산학협력단 |
|
|
| 출원 | 등록(출원) 번호 | 10-2022-0081588 | 등록(출원) 일자 | 20220704 | | 발명의 명칭 | DRAM 소자의 캐패시터 및 그 제조 방법 | | 발명자 | 박영욱, 김선용, 박인성, 안진호*, 신왕철 | | 등록국가 | 대한민국 | | 특허권자 | 한양대학교 산학협력단 |
|
|
| 출원 | 등록(출원) 번호 | 17/851,580 | 등록(출원) 일자 | 20220628 | | 발명의 명칭 | MASK PROTECTIVE MODULE, PELLICLE HAVING THE SAME, AND
LITHOGRAPHY APPARATUS HAVING THE SAME | | 발명자 | 안진호*, 홍성철, 김정환 | | 등록국가 | 미국 | | 특허권자 | 한양대학교 산학협력단 |
|
|
| 출원 | 등록(출원) 번호 | 10-2022-0067753 | 등록(출원) 일자 | 20220602 | | 발명의 명칭 | 조명계 조절을 통한 EUV 마스크 검사 장치 및 방법 | | 발명자 | 안진호*, 문승찬, 김영웅, 이동기, 최진혁 | | 등록국가 | 대한민국 | | 특허권자 | 한양대학교 산학협력단 |
|
|
| 출원 | 등록(출원) 번호 | 10-2022-0066154 | 등록(출원) 일자 | 20220530 | | 발명의 명칭 | EUV 마스크 소재의 굴절계수 및 흡광계수 측정 장치 및 방법 | | 발명자 | 안진호*, 이동기, 김영웅, 문승찬, 최진혁 | | 등록국가 | 대한민국 | | 특허권자 | 한양대학교 산학협력단 |
|
|
| 출원 | 등록(출원) 번호 | 10-2022-0043229 | 등록(출원) 일자 | 20220407 | | 발명의 명칭 | EUV 노광공정용 종합 검사 장치 | | 발명자 | 안진호*, 이동기, 김영웅, 문승찬, 최진혁 | | 등록국가 | 대한민국 | | 특허권자 | 한양대학교 산학협력단 |
|
|
| 출원 | 등록(출원) 번호 | 10-2021-0185830 | 등록(출원) 일자 | 20211223 | | 발명의 명칭 | 펠리클 세정 장치 및 이를 이용한 펠리클 세정 방법 | | 발명자 | 박진구, 김태곤, 안진호*, 박상욱, 이병훈, 정창영 | | 등록국가 | 대한민국 | | 특허권자 | 삼성전자(주), 한양대학교 에리카 산학협력단 |
|
|
| 출원 | 등록(출원) 번호 | 10-2021-0162990 | 등록(출원) 일자 | 20211124 | | 발명의 명칭 | 극자외선 노광 공정용 펠리클의 열적 내구성 개선 방법 | | 발명자 | 위성주, 장용주, 김하늘, 안진호* | | 등록국가 | 대한민국 | | 특허권자 | 한양대학교 산학협력단 |
|
|
